TYPICAL APPLICATIONS
Transmission scanning electron microscopy
Scanning electron microscopy
Semiconductor analysis, milling and repair
Ion beam etching
Focused ion-beam lithography
紋波2ppm
威思曼高壓電源的HEM系列是綜合的多輸出高電壓電源，于聚焦離子束。典型的應(yīng)用包括透射和掃描電子顯微鏡；半導(dǎo)體分析，銑削和修復(fù)光盤驅(qū)動器頭，離子；束刻蝕和聚焦離子束光刻。模塊化設(shè)計(jì)方法，允許個(gè)別組件可以很容易地配置在一個(gè)共同的機(jī)架大底盤安裝裝配。接口，邏輯和控制電路是采用表面貼裝技術(shù)，盡量減少成本和尺寸。集成加速電源、燈絲電源，吸取極電源，抑制極電源和鏡頭電源。超低輸出紋波，的調(diào)整率、穩(wěn)定性、溫漂、精度。高電壓懸浮、數(shù)字化控制技術(shù)。HEM系列高精度模塊價(jià)格有競爭力，是OEM應(yīng)用的理想選擇。
技術(shù)參數(shù)：
輸入:DC24V, 47到63Hz
加速極電源
輸出電壓：0到-35KV
輸出電流：450μA
紋波：70 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率：輸入變化+ / -10％為100mV
負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定度：預(yù)熱2小時(shí)候后，1.5V/10小時(shí)
溫度系數(shù)：25 PPM / °C
燈絲電源
輸出電壓：0至5 VDC
輸出電流：0到5 A
紋波：10mA P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率：+ / -10％變化為5mA
負(fù)載調(diào)整率：± 0.1％,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后5mA/10分鐘
溫度系數(shù)：200 PPM / °C
抑制極電源
輸出電壓：-10v 到- 2kv
輸出電流：300uA
紋波：20 mV P-P，從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率：輸入+ / -10％變化為100mV
負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％，電壓，滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，500mV/10小時(shí)
溫度系數(shù)：25 PPM / °C
吸取極電源
輸出電壓：0到-15KV
輸出電流：400μA
紋波：30 mV P-P，從0.1 Hz到1 MHZ,30μA以下
線路調(diào)整率：輸入+ / -10％的變化為100mV
負(fù)載調(diào)整率：± 0.01％,電壓,滿負(fù)荷變化
穩(wěn)定性：預(yù)熱2小時(shí)后，500mV/10小時(shí)
溫度系數(shù)：25 PPM / °C
威思曼高壓電源有限公司是直流高壓電源和一體化X射線源供應(yīng)商，同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品和定制設(shè)計(jì)服務(wù)。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于醫(yī)療,工業(yè),半導(dǎo)體,安全,分析儀器，實(shí)驗(yàn)室以及海底光纖等設(shè)備。
