快速退火爐（RTP/RTA）是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。大尺寸快速退火爐（12英寸）可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。

       快速退火爐(RTP/RTA)是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。大尺寸快速退火爐(12英寸)可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。
 

　　大尺寸快速退火爐(12英寸)是一款很有特點的快速退火爐，有非常大的退火空間，適合大尺寸樣品的熱處理。
 

　　儀器特點：
 

　　-  快速熱處理、快速熱退火  RTP / RTA；
 

　　-  可在真空、甚至于高真空環(huán)境使用；
 

　　-  加熱區(qū)域尺寸：300毫米 X 300毫米；
 

　　-  廣泛用于太陽能電池片快速退火工藝，如156mm X 156mm電池片，300mm X 300mm電池片等；
 

　　參考用戶：
 

　　中科院上海技術物理所，*41所。
 

　　上海載德半導體技術有限公司是專業(yè)的半導體及微電子領域儀器設備供應商，上海載德所代理的儀器設備廣泛用于高校、研究所、半導體*。
 

　　上海載德半導體技術有限公司目前代理的主要產品包括：
 

　　- 霍爾效應測試儀(Hall Effect Measurement System)；
 

　　- 快速退火爐(RTP)；
 

　　- 回流焊爐，真空燒結爐(Reflow Solder System)；
 

　　- 探針臺(Probe Station)，低溫探針臺(Cryogenic Probe Station)；
 

　　- 貼片機(Die Bonder)，劃片機(Scriber)，球焊機/鍥焊機(Wire Bonder)；
 

　　- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，等離子增強原子層沉積設備(PEALD)；
 

　　- 磁控濺射鍍膜機(Sputter)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(E-beam Evaporator)，熱蒸發(fā)鍍膜機(Thermal Evaporator)，脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;
 

　　- 低壓化學氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)，等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，快速熱化學氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)；
 

　　- 反應離子刻蝕機(RIE)，ICP刻蝕機，等離子體刻蝕機；
 

　　- 致冷機/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)；
 

　　- 加熱臺、熱板、烤膠臺 (Hot Chuck / Hot Plate)；
 

　　- 掃描開爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)，光反射膜厚儀(Reflectometer)；
 

　　- 高溫超導磁體(HTS Magnet)，快速場循環(huán)核磁共振弛豫測試儀(FFC Reflexometer)。