SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)

SAL-1000Series是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

SAL1000 系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)具備如下特點：

1.良好的成膜性能，膜厚均勻性高，≤3%

· 對于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性；

· 膜厚可準確控制達一個原子層；

· 大面積制程可達到無孔洞薄膜（Pin Hole free）

· *的重復(fù)性及穩(wěn)定性

· 材料缺陷密度低

· 可成長非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度）

2.優(yōu)異的真空性能，真空度≤5Pa

3.觸控操作，簡單易用；

·觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程，并檢查每個驅(qū)動系統(tǒng)的運動。

·可進行自動沉積，并在沉積完成后自動完成N₂排放。

·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

4.配件豐富，可滿足多種試驗需求：

基底旋轉(zhuǎn)架、粉末樣品配件、手套箱、臭氧發(fā)生器、尾氣處理設(shè)備、200℃前驅(qū)體的加熱器，干式真空泵等；

粉末沉積配件：傾斜框架可調(diào)整的角度為0 ~ 45°，更便于粉末成膜。單次可對5cm³的粉體進行表面沉積；