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熒光高光譜成像系統(tǒng)

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公司名稱 八帆儀器設(shè)備（上海）有限公司
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廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2021/1/5 16:18:00
訪問次數(shù) 101

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

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IMA™高光譜顯微鏡平臺可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個模塊化系統(tǒng)配置為快速掃描VIS，NIR和/或SWIR光譜，可同時繪制光致發(fā)光，電致發(fā)光，熒光，反射光和透射光的組合。每個IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡；這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統(tǒng)更快地測量百萬像素超立方體。

IMA™為您打開了大門

執(zhí)行復(fù)雜的材料分析，例如太陽能電池表征和半導(dǎo)體質(zhì)量控制（例如：鈣鈦礦，GaAs，SiC，CIS，CIGS等）。
在復(fù)雜的環(huán)境（包括活細(xì)胞和組織）中研究IR標(biāo)記。以在第二生物窗口中發(fā)射的IR熒光團(tuán)的光譜異質(zhì)性為例。
檢索暗場圖像并獲得透明和未染色樣品（例如聚合物，晶體或活細(xì)胞）的對比度。

特點

快速全局映射（非掃描）
高空間和光譜分辨率
完整的系統(tǒng)（源，顯微鏡，相機(jī)，濾鏡，軟件)
無損分析
可定制
可見光范圍從400到1000 nm，SWIR范圍從900 nm到1700 nm

演示視頻

技術(shù)指標(biāo)

光譜范圍	VIS-SWIR型號 400-1620 nm
光譜范圍	可見光 400-1000 nm	短波 900-1620 nm
光譜分辨率	<2納米	<4納米
相機(jī)	CCD，EMCCD，sCMOS	ZephIR 1.7
激發(fā)波長（多3個激光）	405、447、532、561、660、730、785或808 nm
顯微鏡	直立或倒立；科學(xué)級
空間分辨率	亞微米（受顯微鏡物鏡NA限制）
大樣本大小	10厘米x 10厘米
X，Y旅行范圍	76毫米x 52毫米
Z-階段分辨率	100納米
照明照明選項	透射，透射，LED，HG，落射熒光模塊，暗場模塊
波長精度	0.25nm
視頻模式	百萬像素相機(jī)用于樣品可視化
數(shù)據(jù)處理	空間過濾，統(tǒng)計工具，頻譜提取，數(shù)據(jù)歸一化，頻譜校準(zhǔn)，疊加，中心位置圖等。
超光譜數(shù)據(jù)格式	HDF5，F(xiàn)ITS
單圖像數(shù)據(jù)格式	HDF5，CSV，JPG，PNG，TIFF
軟件	PHySpec™控制和分析（包括計算機(jī)）
尺寸圖	?150厘米x 85厘米82厘米
重量	?80公斤