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熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU5000

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公司名稱 昆山瑞塞奇精密儀器有限公司
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更新時(shí)間 2021/3/2 19:23:27
訪問(wèn)次數(shù) 265

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2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

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操作高效便捷創(chuàng)新的“EM Wizard”界面更加直觀，僅需要“點(diǎn)擊”即可得到優(yōu)良的圖像。超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)水平。高性能電子光學(xué)系統(tǒng)二次電子分…

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU5000

操作高效便捷

創(chuàng)新的“EM Wizard”界面更加直觀，僅需要“點(diǎn)擊”即可得到優(yōu)良的圖像。

超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)水平。

高性能電子光學(xué)系統(tǒng)

二次電子分辨率: 二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)＊
高靈敏度: 高效PD-BSD, *的低加速電壓性能，低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析

性能優(yōu)異

壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)＊
開(kāi)倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣(大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等

*：: 選配附件

項(xiàng)目		內(nèi)容
分辨率		1.2 nm @ 30 kV 3.0 nm @ 1 kV 2.0 nm @ 1 kV 減速模式^1 3.0 nm @ 15 kV 低真空模式^2
放大倍率		10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) 30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素)
電子光學(xué)系統(tǒng)	電子槍	ZrO /W 肖特基式電子槍
	加速電壓	0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進(jìn))
	著陸電壓	減速模式: 0.1 - 2.0 kV ^＊1
	大束流	> 200 nA
探測(cè)器		低位二次電子探測(cè)器
低真空模式^*2		真空范圍: 10 - 300 Pa
馬達(dá)臺(tái)	馬達(dá)臺(tái)控制	5 - 軸自動(dòng) (優(yōu)中心)
	可動(dòng)范圍	X：0～100mm Y：0～50mm Z：3～65mm T：-20～90° R：360°
	大樣品尺寸	大直徑: 200 mm 大高度: 80 mm
選配探測(cè)器		高分辨率頂位二次電子探測(cè)器^＊1 高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD) 5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)^*3 能譜儀 (EDS) 波譜儀 (WDS) 背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)

*1：: 減速功能（包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器）
*2：: 低真空功能（包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器）
*3：: 空壓機(jī)(本地采購(gòu))

熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU5000