KLA是半導(dǎo)體在線檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)較大的供應(yīng)商，在半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、 MEMS 、太陽(yáng)能、光電子以及其他領(lǐng)域中有著不俗的力量。
Alpha-Step D-500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。

Alpha-Step D-500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。 創(chuàng)新的光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測(cè)量，大垂直范圍和低觸力測(cè)量功能。

探針測(cè)量技術(shù)的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是它是一種直接測(cè)量，與材料特性無(wú)關(guān)。可調(diào)節(jié)的觸力以及探針的選擇都使其可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)和材料進(jìn)行測(cè)量。通過(guò)測(cè)量粗糙度和應(yīng)力，可以對(duì)工藝進(jìn)行量化，確定添加或去除的材料量，以及結(jié)構(gòu)的任何變化。

   二、 功能

設(shè)備特點(diǎn)

臺(tái)階高度：幾納米至1200μm

低觸力：0.03至15mg

視頻：500萬(wàn)像素高分辨率彩色攝像頭

梯形失真校正：消除側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)引起的失真

圓弧校正：消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差

緊湊尺寸：小占地面積的臺(tái)式探針式輪廓儀

主要應(yīng)用

臺(tái)階高度：2D臺(tái)階高度

紋理：2D粗糙度和波紋度

形式：2D翹曲和形狀

應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

應(yīng)用領(lǐng)域

大學(xué)，研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

半導(dǎo)體和復(fù)合半導(dǎo)體

SIMS：二次離子質(zhì)譜

LED：發(fā)光二極管

太陽(yáng)能

MEMS：微電子機(jī)械系統(tǒng)

汽車(chē)

醫(yī)療設(shè)備

三、應(yīng)用

臺(tái)階高度

Alpha-Step D-500 探針式輪廓儀能夠測(cè)量從幾個(gè)納米到1200μm的2D臺(tái)階高度。 這使其可以量化在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。 Alpha-Step 系列具有低觸力功能，可以測(cè)量如光刻膠的軟性材料。

   紋理：粗糙度和波紋度

Alpha-Step D-500測(cè)量2D紋理，量化樣品的粗糙度和波紋度。 軟件過(guò)濾功能將測(cè)量值分離為粗糙度和波紋度的部分，并計(jì)算諸如均方根（RMS）粗糙度之類(lèi)的參數(shù)。

外形：翹曲和形狀

Alpha-Step D-500可以測(cè)量表面的2D形狀或翹曲。 這包括對(duì)晶圓翹曲的測(cè)量，例如在半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中，多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配是導(dǎo)致這類(lèi)翹曲產(chǎn)生的原因。Alpha-Step還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

Alpha-Step D-500能夠測(cè)量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。 使用應(yīng)力卡盤(pán)將樣品支撐在中性位置精確測(cè)量樣品翹曲。 然后通過(guò)應(yīng)用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來(lái)計(jì)算應(yīng)力。