當(dāng)前位置:儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 行業(yè)專用儀器>其它行業(yè)專用儀器>其它> 高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)
返回產(chǎn)品中心>適用于1Xnm級開發(fā)以及22nm級量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000CG5000革新了運送類系統(tǒng),并通過對電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良,實現(xiàn)了有史以來(注1)的分辨率,處理能力,測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強化了自動校準(zhǔn)功能,提供了長期穩(wěn)定的運行率。另外,CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用,可應(yīng)用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題,也可全面適用于1Xnm級設(shè)備的開發(fā)。(注1)自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來,公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言
適用于1Xnm級開發(fā)以及22nm級量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000
CG5000革新了運送類系統(tǒng),并通過對電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良,實現(xiàn)了有史以來(注1)的分辨率,處理能力,測長再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強化了自動校準(zhǔn)功能,提供了長期穩(wěn)定的運行率。
另外,CG5000采用新測長技術(shù)及應(yīng)用,可應(yīng)用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題,也可全面適用于1Xnm級設(shè)備的開發(fā)。
(注1)自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來,公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言
高生產(chǎn)性
此裝置革新了運送機器的結(jié)構(gòu)構(gòu)成(包括裝、卸部件以及平臺速度和停止精度的提高),實現(xiàn)AF的高速化,通過可變像素實現(xiàn)測長區(qū)域的化,從而縮短MAM時間,與以往相比,提高了約40%的處理能力。
高分辨率
此裝置通過改良電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)(降噪,改善邊緣銳度,圖像內(nèi)部暗部強調(diào)),改善了Image Sharpness。
長期穩(wěn)定性
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
![]() |
*您想獲取產(chǎn)品的資料:
個人信息: