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超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 日立集團(tuán)
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2023/2/16 12:20:31
  • 訪問(wèn)次數(shù) 215

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隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術(shù)的發(fā)展,電子顯微鏡進(jìn)入了一個(gè)不僅重視數(shù)據(jù)質(zhì)量,而且重視其采集過(guò)程的時(shí)代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質(zhì)量圖像、大束流分析及長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的冷場(chǎng)成像技術(shù),同時(shí)還大大提升了高通量、自動(dòng)數(shù)據(jù)獲取能力。*設(shè)備照片包含選配項(xiàng)。

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超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列

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超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列

隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術(shù)的發(fā)展,電子顯微鏡進(jìn)入了一個(gè)不僅重視數(shù)據(jù)質(zhì)量,而且重視其采集過(guò)程的時(shí)代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質(zhì)量圖像、大束流分析及長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的冷場(chǎng)成像技術(shù),同時(shí)還大大提升了高通量、自動(dòng)數(shù)據(jù)獲取能力。

*
設(shè)備照片包含選配項(xiàng)。

  • 特點(diǎn)

  • 規(guī)格

特點(diǎn)

特點(diǎn)

超高分辨成像

日立的高亮度電子源可保證了即使在超低著陸電壓下,也可獲得超高分辨的圖像。

0.8 kV電壓條件下觀察RHO型沸石的實(shí)例。左圖為顆粒整體的形貌,右圖為放大圖像,顆粒表面細(xì)微的臺(tái)階結(jié)構(gòu)清晰可見。低電壓觀察對(duì)于減少電子束損傷和獲取表面形狀信息較為有效。

樣品提供:日本工業(yè)技術(shù)綜合研究所 上村 佳大 先生

高襯度的低加速電壓背散射圖像

3D NAND截面觀察;
在低加速電壓條件下,背散射電子信號(hào)能夠明顯的顯示出氧化硅層和氮化硅層的襯度差別。


3D NAND截面觀察(加速電壓:1.5kV)

快速BSE圖像:新型閃爍體背散射電子探測(cè)器(OCD)*

由于使用了新型的OCD探測(cè)器,即使掃描時(shí)間不到1秒,也仍然可以觀察到Fin-FET清晰的深層結(jié)構(gòu)圖像.


5納米制程SRAM的內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察 (加速電壓:30kV,掃描時(shí)間<1秒)

*的自動(dòng)化功能*

EM Flow Creator 允許客戶創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動(dòng)化工作流程。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊,如設(shè)置放大倍率、移動(dòng)樣品位置、調(diào)節(jié)焦距和明暗對(duì)比度等。用戶可以通過(guò)簡(jiǎn)單的鼠標(biāo)拖拽,將這些模塊按邏輯順序組成一個(gè)工作程序。經(jīng)過(guò)調(diào)試和確認(rèn)后,該程序便可以在每次調(diào)用時(shí)自動(dòng)獲得高質(zhì)量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)。

靈活的用戶界面

原生支持雙顯示器,提供靈活、高效的操作空間。6通道同時(shí)顯示與保存,實(shí)現(xiàn)快速的多信號(hào)觀測(cè)與采集。

1,2,4 或6通道信號(hào)可在同一個(gè)顯示器上同時(shí)顯示,可切換內(nèi)容包括SEM各探測(cè)器以及樣品室相機(jī)和導(dǎo)航相機(jī)??梢酝ㄟ^(guò)使用兩個(gè)顯示器來(lái)擴(kuò)展工作空間,可定制的用戶界面以提高工作效率。

規(guī)格

機(jī)型SU8600 系列
電子光學(xué)系統(tǒng) 二次電子像分辨率 0.6 nm@15 kV
0.7 nm@1 kV *
放大倍率 20 to 2,000,000 x
電子槍 冷場(chǎng)發(fā)射電子源,支持柔性閃爍功能,包含陽(yáng)極烘烤系統(tǒng)。
加速電壓 0.5 to 30 kV
著陸電壓 0.01 to 20 kV
探測(cè)器 (部分為選配項(xiàng)) 上探測(cè)器(UD)
UD ExB能量過(guò)濾器,包含SE/BSE信號(hào)混合功能
下探測(cè)器(LD)
頂探測(cè)器(TD)
TD能量過(guò)濾器
鏡筒內(nèi)背散射電子探測(cè)器(IMD)
半導(dǎo)體式背散射電子探測(cè)器 (PD-BSED)
新型閃爍體式背散射電子探測(cè)器(OCD)
陰極熒光探測(cè)器(CLD)
掃描透射探測(cè)器(STEM Detector)
附件 (部分為選配項(xiàng)) 導(dǎo)航相機(jī)、樣品室相機(jī)、X射線能譜儀(EDS)、背散射電子衍射探測(cè)器(EBSD)
軟件 (部分為選配項(xiàng)) EM Flow Creater、HD Capture( 40,960×30,720 像素)
樣品臺(tái) 馬達(dá)驅(qū)動(dòng)軸 5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)(X/Y/R/Z/T)
馬達(dá)驅(qū)動(dòng)軸 X:0~110 mm
Y:0~110 mm
Z:1.5~40 mm
T:-5~70°
R:360°
樣品室 樣品尺寸 直徑:150 mm
*
減速模式下

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  • 聚焦離子束系統(tǒng) (FIB/FIB-SEM)
  • TEM/SEM樣品前處理裝置


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