瑞士Safematic電鏡制樣設備：CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀
緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監(jiān)測裝置。
特點和優(yōu)點
?高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和可選的等離子處理
?專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜，無需用戶干預
?的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
?的真空性能和快速抽真空
?結構緊湊、可靠且易于維修
?雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
?主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續(xù)運行時間
巧妙的真空設計
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了的SEM、TEM和薄膜應用。特別選擇和設計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設備。
LC-006金屬大腔室
可選的LC-006是當前玻璃腔室的擴大版，為鋁制結構。這個金屬腔室可容納6"晶圓樣品或其它大尺寸樣品，而且消除了對內爆防護的需求。在CCU-010 HV上選配LC-006, 無需任何修改就可實現更大樣品和晶圓的鍍膜。
SP-010 & SP-011濺射模塊
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 HV鍍膜主體單元，均可立即使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續(xù)噴涂時間長，非常適合需要較厚膜的應用。 可選多種濺射靶材，適合SEM、FIB和各種薄膜應用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具，也適合于極細顆粒尺寸鍍膜。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對那些比常規(guī)EM應用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應用時，推薦使用該濺射頭。SP-011濺射頭與CCU-010 HV主體單元相結合，可滿足諸如DLC，ITO或鐵磁濺射材料鍍膜等具有挑戰(zhàn)性的應用。（二選一作為標配）
CT-010碳蒸發(fā)模塊
緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體單元后，即可立即使用，適合SEM、TEM和任何需要高質量碳膜應用的場合。CT-010使用且技術的碳繩卷軸系統，可以進行多達數十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會自動前進，用過的碳繩會掉落到方便的收集盤中。除了易于使用外，自動卷軸系統還允許在一個鍍膜循環(huán)內可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對溫度敏感的樣品進行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動啟動擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊
可選的GD-010輝光放電系統可快速安裝，通過空氣、氬氣或其它專用氣體進行表面處理，例如，使碳膜親水。本機可按順序進行碳鍍膜和輝光放電處理，無需“破”真空或更換處理頭，極大地簡化了操作過程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺兼容。
HS-010真空儲存箱
可選的HS-010真空儲存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、備用行星臺或旋轉臺、所有濺射靶材和碳附件，使它們處于清潔狀態(tài)。通過集成的真空管路與鍍膜主體單元連接，利用CCU-010抽真空系統對儲物箱抽真空?？蛇x地，用戶也可用外接真空泵替代。舒適的手動鎖定裝置和放氣閥允許對儲物箱進行獨立的抽真空和放氣控制。額外的標準真空腔室可有效地避免蒸碳和濺射金屬之間的交叉污染。
ET-010等離子刻蝕單元
在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后，可選該單元對樣品進行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附著力。也可在樣品鍍碳后進行等離子處理，從而對碳膜表面進行改性。
Coating-LAB軟件
使用可選的基于PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內的處理數據。數據包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實時曲線。便捷的軟件升級和參數設置讓此智能工具更為。
RC-010手套箱應用的遠程控制軟件（可選）
◎基于window的遠程控制軟件
◎創(chuàng)建和調用配方
◎實時圖表，包含導出功能（Excel、png等）
◎自動連接到設備
可選多種樣品臺
CCU-010提供了一個直徑80mm的樣品臺，該樣品臺插入到高度可調且可傾斜的樣品臺支架上?？蛇x其它專用的旋轉樣品臺、行星臺、載玻片樣品臺等。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射和鍍碳儀采用優(yōu)質組件和智能設計，可在超高分辨率應用中提供出色的結果。該設備是全自動抽真空和全自動操作，采用TFT 觸摸屏操控，配方可編程，保證結果可重復。CCU-010 HV 標配抽真空系統無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內部，外部沒有笨重的旋轉泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無油抽真空系統可將鍍層中的污染或缺陷降至。關閉時，該設備可以保持在真空下，這有效地保護了系統免受灰塵和濕氣的影響，并為高質量的鍍層創(chuàng)造了快速抽真空和有利的真空條件。
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱專用鍍膜儀。
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點在于實現了兩大技術性突破：一是采用自動碳纖維卷繞系統，在每次蒸發(fā)后自動推進碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進行數十次的鍍碳運行，比市場上常見的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節(jié)省大量的人工操作，既適用于大多數常規(guī)鍍碳應用，也適用于超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應用。二是將“鍍膜前對樣品表面進行等離子清潔（增加附著力）+鍍膜+鍍膜后對膜層表面進行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集于同一臺儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質量，拓寬了應用范圍。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品質”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務，客戶買得放心、用得省心！
