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ZENNIUM pro 電化學(xué)工作站

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公司名稱 深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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所在地 深圳市
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更新時(shí)間 2024/1/23 10:50:10
訪問(wèn)次數(shù) 137

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

Zennium Pro 型號(hào)電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)：恒電位儀整體帶寬 10MHzEIS頻率范圍 10μHz-8MHz 頻率精度 0.0025%頻率分辨率 0.0025%，10000 steps / decade 交流振幅范圍 0-6V 阻抗測(cè)試精度 1 mΩ to 10 GΩ / 2%， 100 mΩ to 10 MΩ / 0.2% 輸入阻抗 10 TΩ |

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Zennium Pro 型號(hào)電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)：

恒電位儀整體帶寬	10MHz
EIS頻率范圍	10μHz-8MHz
頻率精度	0.0025%
頻率分辨率	0.0025%，10000 steps / decade
交流振幅范圍	0-6V
阻抗測(cè)試精度	1 mΩ to 10 GΩ / 2%， 100 mΩ to 10 MΩ / 0.2%
輸入阻抗	>10 TΩ \|\| ±5 pF (typical) 主機(jī)
大電流	±3A
應(yīng)用電位范圍	±15V
槽壓	±28V
電壓分辨率	3nV
電流分辨率	±5aA (32 Bit)
電流精度	±0.04 % of reading ± 0.02% of FS 1 μA ... 100 mA范圍 ±0.4 % of reading ± 0.2% of FS 100 mA ... 3 A 范圍 ±0.4 % of reading ± 0.2% of FS 10 nA ... 1 μA 范圍
小信號(hào)升起時(shí)間	150ns－200μs in 5 steps 范圍自動(dòng)選擇
IR補(bǔ)償	精確的EIS 技術(shù)，實(shí)時(shí)自動(dòng)補(bǔ)償
接地模式	浮地和接地兩種技術(shù)，可以應(yīng)用于接地體系，如高壓釜
ADC 分辨率	32 bit