全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數(shù)字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、的ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

產(chǎn)品簡介：

全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數(shù)字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、的ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

產(chǎn)品定位：

金屬材料領域的全譜直讀光譜儀

檢測基體：

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數(shù)字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，采用真空光學室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

技術參數(shù)：

光學系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)；

波長范圍：120nm~589nm

焦距：400mm

探測器：高性能CCD陣列

光源類型：數(shù)字光源，高能預燃技術（HEPS）

放電頻率：100-1000Hz

放電電流：zui大400A

工作電源：220VAC 50/60Hz

儀器尺寸：650*860*1200

儀器重量：約235kg（不含真空系統(tǒng)）

檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右

電極：鎢材噴射電

光學恒溫：34℃± 0.3℃

氬氣要求：99.999％

氬氣進口壓力：0.5MPa

氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

工作溫度：10℃～35℃

工作濕度：20％～85％

分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測

產(chǎn)品特色：

優(yōu)化設計的真空光學系統(tǒng)

1、整體光學室裝置、帕邢-龍格結構設計，所有譜線集成在羅欄園上；

2、直射式光學技術及透鏡ＭｇＦ２材料，保證Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波長的能量。

全數(shù)字激發(fā)光源

1、全數(shù)字、高能預燃技術（HEPS），不同樣品設置不同的激發(fā)參數(shù)，提高樣品的測量精；

2、和相似性，提高樣品激發(fā)速度，提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性。

功能性設計的激發(fā)裝置

1、集成氣路、噴射電極技術，開放式銅火花臺，不僅保證樣品測量精度還能購測量各種復雜形狀的樣品（含線材）；

2、單板式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發(fā)臺進行進行維護和透鏡的清洗。

高集成、高速度讀出系統(tǒng)

1、高性能CCD固態(tài)檢測技術，波段內譜線全譜接收；

2、FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術，數(shù)據(jù)讀入功能強大，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短。

直觀、易操作的分析軟件

1、基于WINDOWS系統(tǒng)的多國語言的ＣＣＤ全譜分析軟件的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力；

2、儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析及的解決方案；

3、儀器實現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大的提高了儀器的分析能力。