儀器簡介：
XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量nami級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHSjiance及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢：
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微小樣品jiance：zui小測量面積0.008mm2
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變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-90mm
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自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層jiance，多層多元素，甚zhi有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量
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的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，jiandi檢出限
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高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器
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X射線裝置：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置
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上照式設(shè)計：實(shí)現(xiàn)對超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)gaoxiao率測量
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可編程自動位移：選配自動平臺，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動測量
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多準(zhǔn)直器自動切換
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應(yīng)用領(lǐng)域：
廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)、通訊行業(yè)、汽車行業(yè)、五金建材、航空航天、環(huán)保jiance、地質(zhì)地礦、水暖衛(wèi)浴、精密電子、珠寶首飾和古董、鋰電行業(yè)等多種領(lǐng)域。
多元迭代EFP核心算法（號：2017SR567637）
zhuanye的研發(fā)團(tuán)隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。
有害元素jiance：RoHSjiance，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分jiance及含量分析
技術(shù)參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分zui低檢出限：1ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層zui低檢出限：0.005μm
5. zui小測量直徑□0.1*0.3mm（zui小測量面積0.03mm2）
標(biāo)配：zui小測量直徑0.3mm（zui小測量面積0.07mm2）
6. 對焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm
8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm
9. 儀器重量：100KG
10. XY軸工作臺移動范圍：100mm*150mm
11. XY軸工作臺zui大承重：15KG
選擇一六儀器的四大理由：
1.一機(jī)多用，無損jiance（涂鍍層jiance-環(huán)保RoHS-成分分析）
2.zui小測量面積0.002mm2
3.可jiance凹槽0-90mm的異形件
4.輕元素，重復(fù)鍍層，同種元素不同層亦可jiance
