光學(xué)系統(tǒng)光學(xué)結(jié)構(gòu)全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)光室溫度自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃波長(zhǎng)范圍160-800nm光柵焦距350 mm光柵刻線(xiàn)3600 l/mm一級(jí)光譜線(xiàn)色散率1.2 nm/mm探測(cè)器多塊高性能線(xiàn)陣CCD平均分辨率10pm/pixel激發(fā)臺(tái)氣體沖氬式氬氣流量激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機(jī)時(shí):無(wú)須待機(jī)流量電極鎢材
應(yīng)用領(lǐng)域：
主要應(yīng)用于冶金、機(jī)械、科研院所、商檢、汽車(chē)、化工、造船、電力、航空航天、核電等行業(yè)，在中心實(shí)驗(yàn)室或爐前對(duì)黑色純金屬及其合金、有色純金屬及其合金中化學(xué)成分的準(zhǔn)確定量分析。材料基體類(lèi)別有Fe、Al、Cu、Ni、Pb、Zn、Mg、Co、Sn、Ti等，是金屬材料質(zhì)量控制、成本控制、研究開(kāi)發(fā)的關(guān)鍵檢測(cè)設(shè)備。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
●全新標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)、高集成電路、獨(dú)立供電、整體出縫，儀器調(diào)試方便、快捷，便于增加通道；
●部件品質(zhì)優(yōu)良，核心部件全購(gòu)自專(zhuān)業(yè)廠(chǎng)家；
●技術(shù)、、軟件功能齊全、靈活；
●DF-100E直讀光譜儀主要用于單基體的分析；
●外形尺寸及重量：長(zhǎng)1420mm，寬920mm，高1300mm；重量約400kg。
光學(xué)系統(tǒng) |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃ |
波長(zhǎng)范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線(xiàn) | 3600 l/mm |
一級(jí)光譜線(xiàn)色散率 | 1.2 nm/mm |
探測(cè)器 | 多塊高性能線(xiàn)陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺(tái) |
氣體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機(jī)時(shí):無(wú)須待機(jī)流量 |
電極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ)償 | 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 | 樣品臺(tái)分析間隙：4mm |
激發(fā)光源 |
類(lèi)型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù)燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) |
處理器 | ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 |
輸入 | 220VAC 50Hz |
功率 | 分析時(shí)大700W，待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 |
尺寸 | 800*450*500 mm |
重量 | 85Kg
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