簡要描述： 高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的產(chǎn)品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。

北京華科易通分析儀器有限公司，是高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術服務于一體的高科技企業(yè)。HK-2000型高純硅分析等離子體發(fā)射光譜儀，是我公司在現(xiàn)有技術的基礎上，吸收國際技術成果研制開發(fā)的產(chǎn)品。

（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。

一、儀器整機主要性能參數(shù)：

1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；

2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；

3、波長示值誤差和重復性：波長示值誤差≤0.02nm，重復性≤0.003nm；

4、掃描步距：0.0004nm；

5、重復性：RSD≤1.0%；

6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；

7、檢出限：ppb級；

8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；

9、線性范圍：7個數(shù)量級以上，且自吸效應極低；

10、分析速度：每分鐘掃描zui快達25個元素以上；

11、等級證書：國家計量器具型式許可A級（且遠優(yōu)于A級）。

12、必須有生產(chǎn)許可證：且規(guī)格要求滿足，測量范圍：190-500nm

13 規(guī)格大小：長寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m  立式儀器方便推挪，免裝試驗臺*

二、儀器各部件詳細參數(shù)：

射頻發(fā)生器（RF）

（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率反饋信號，進行閉環(huán)自動控制；

（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；

（3）頻率穩(wěn)定性：≤0.05%；

（4）輸出功率：800～1200W；

分光器

（1）光路：Czerny－Turner；

（2）焦距：1000mm；

（3）光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；

（4）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。

測光裝置

（1）光電倍增管規(guī)格：R212UH或R928；

（2）測光方式：單、多元素順序測量。

操作軟件：

（1）操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺；

（2）測定波長數(shù)：任意選擇；

（3）分析速度：每分鐘zui快25個元素以上；

（4）數(shù)據(jù)庫：譜線庫11萬條以上；

（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品；

（6）標準加入法：軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用；

（7）分析模式：軟件默認分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模 式，單位任選等多種功能；

（8）歷史數(shù)據(jù)庫：在歷史數(shù)據(jù)庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果；

（9）數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機打印分析結果。

（10）語言：可中英文雙語