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RST5210F電化學(xué)工作站2

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公司名稱 鄭州世瑞思儀器科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 鄭州市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/4/12 20:58:04
訪問次數(shù) 197

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡介

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RST5210F型電化學(xué)工作站是在RST5200F型的成熟基礎(chǔ)上增加四探針電阻率測(cè)試方法而來

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RST5210F型電化學(xué)工作站是在RST5200F型的成熟基礎(chǔ)上增加四探針電阻率測(cè)試方法而來。該測(cè)試方法是檢驗(yàn)和分析導(dǎo)體和半導(dǎo)體材料質(zhì)量的一種重要的工具，適用于生產(chǎn)企業(yè)、高等院校及各類科研部門。

四探針電阻率測(cè)試方法與電化學(xué)工作站中的其他方法一樣，軟件界面友好、參數(shù)設(shè)置簡單明了。啟動(dòng)測(cè)試后，儀器按設(shè)定的參數(shù)自動(dòng)連續(xù)采集數(shù)據(jù)，在屏幕上實(shí)時(shí)顯示電阻-時(shí)間曲線。測(cè)試結(jié)束后，根據(jù)電阻形態(tài)參數(shù)自動(dòng)換算成電阻率及電導(dǎo)率，無需人工計(jì)算。配備的專用電化學(xué)工作站軟件在電腦上運(yùn)行，可隨時(shí)顯示、保存、打印數(shù)據(jù)和圖形，以備存查。

本方法的設(shè)置參數(shù)有：電阻形態(tài)及尺寸、探針形狀及間距、激勵(lì)電流及可測(cè)電阻范圍、預(yù)熱時(shí)間、樣點(diǎn)間隔、樣點(diǎn)數(shù)量、被測(cè)器件電動(dòng)勢(shì)等。

測(cè)試工具可根據(jù)被測(cè)產(chǎn)品及測(cè)試項(xiàng)目的要求選購，配置不同的測(cè)試工具可滿足不同材料的測(cè)試要求。

本儀器的四探針電阻率測(cè)量方法適用于分立電阻、線狀電阻、面狀電阻、塊狀電阻、直流器件內(nèi)阻。也就是說，可測(cè)量導(dǎo)體及半導(dǎo)體材料的軸向電阻率、徑向電阻率、擴(kuò)散層薄膜電阻率。本儀器具有自動(dòng)電位扣除功能，因此可測(cè)量含源直流器件內(nèi)阻。

電阻形態(tài)	例子
分立電阻	各種類型電阻器件
線狀電阻	銅線、銅棒、鋁線、鋁棒、鐵絲、導(dǎo)電性纖維
面狀電阻	導(dǎo)電覆蓋膜、ITO導(dǎo)電膜玻璃、金屬化標(biāo)簽、半導(dǎo)體外延層擴(kuò)散層、觸屏薄膜、合金類箔膜、電極涂料導(dǎo)電漆膜，蒸發(fā)鋁膜，PCB銅箔膜
塊狀電阻	金屬方塊電阻、金屬圓塊電阻、半導(dǎo)體材料晶塊、半導(dǎo)體材料晶圓、導(dǎo)電橡膠、導(dǎo)電性塑料、導(dǎo)電性陶瓷、導(dǎo)電性糊狀物
直流器件內(nèi)阻	鋰離子電池、鉛酸蓄電池、干電池、鈕扣電池

主要技術(shù)指標(biāo)：

儀器架構(gòu)：恒電位儀、恒電流儀、交流阻抗頻譜儀	電流測(cè)量精度：滿量程的0.1%
接地模式：可根據(jù)體系要求設(shè)置成實(shí)地模式或浮地模式	電流測(cè)量低通濾波器：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置
槽壓：±15V(可擴(kuò)展至±22V或±30V)	方波伏安法頻率：1Hz~100kHz
電位掃描范圍：±12.8V	交流伏安法頻率：0.1Hz~10kHz
CV最小電位增量：0.0125mV	交流阻抗譜頻率:0.00001Hz～1MHz（11個(gè)頻段）
電位控制精度：<±0.5mV	正弦波幅度:0.01mV～12V
電位控制噪聲：<0.01mV	CA和CC脈沖寬度：0.1mS～1200S
電位上升時(shí)間：<0.00025mS	DPV脈沖寬度：0.05mS～64S
電位測(cè)量零位：自動(dòng)校正	IR降補(bǔ)償：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置（10Ω~1MΩ）
電位更新及阻抗采集速率：10MHz	多階躍循環(huán)次數(shù)：1000次
電位測(cè)量低通濾波器：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置	限壓反饋恒流換向時(shí)間：<0.1mS
電位測(cè)量精度：滿量程的0.1%	恒流限壓循環(huán)周期：0.1S~100000S
掃描速度：0.000001V/S～20000V/S	脈沖電鍍//最小脈寬：八相脈沖可正可負(fù)//0.05mS
參比電極輸入阻抗//電容：>1013Ω//<10pF	電池全容量充電工步：激活、恒流、恒壓、涓流
恒電流輸出：±500mA	雙通道高速ADC:18bit@1Msps
輸入偏置電流：<0.1pA	數(shù)據(jù)長度：20，000，000點(diǎn)
電流測(cè)量分辨率：電流量程的0.00076%，最小0.2fA	通氮攪拌及敲擊控制輸出：二路開關(guān)量信號(hào)（+5V/10mA）
電流測(cè)量零位：自動(dòng)校正	擴(kuò)展輸出：二路光電隔離數(shù)字量信號(hào)
電流測(cè)量量程：1pA～500mA(25檔)	儲(chǔ)能電化學(xué)測(cè)量保護(hù)模式：極性、電壓、電流、時(shí)間、鏈路
前置放大倍數(shù)：5×10×100	電極智能柔性保護(hù) ：電壓超載、電流超載
電流測(cè)量靈敏度：1×10-12A/V	與RSRSMART儀器聯(lián)機(jī)，綜合軟件同步運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)毛細(xì)管電泳及電化學(xué)發(fā)光檢測(cè)。

主要測(cè)試方法：

線性掃描伏安法LSV	單電位階躍計(jì)時(shí)電流法CA
線性掃描溶出伏安法	單電位階躍計(jì)時(shí)電量法CC
線性掃描循環(huán)伏安法LCV	多電位階躍計(jì)時(shí)電流法
階梯伏安法SV	多電位階躍計(jì)時(shí)電量法
階梯溶出伏安法	單電流階躍計(jì)時(shí)電位法CP
階梯循環(huán)伏安法SCV	多電流階躍計(jì)時(shí)電位法
方波伏安法SWV	恒電位電解I-T曲線
方波溶出伏安法	恒電位電解Q-T曲線
方波循環(huán)伏安法SWCV	恒電位溶出I-T曲線
差示脈沖伏安法DPV	恒電位溶出Q-T曲線
差示脈沖溶出伏安法	開路電位E-T曲線OCPT
常規(guī)脈沖伏安法NPV	電位溶出E-T曲線
差示常規(guī)脈沖伏安法DNPV	控制電流E-T曲線
差分脈沖電流檢測(cè)	控制電位電解庫侖法
雙差分脈沖電流檢測(cè)	鍍錫量測(cè)定
三脈沖電流檢測(cè)	塔菲爾圖Tafel
積分脈沖電流檢測(cè)	環(huán)形掃描
脈沖電鍍法	點(diǎn)蝕電位
電鍍電位監(jiān)測(cè)	電偶腐蝕
流體力學(xué)調(diào)制伏安法	電化學(xué)噪聲測(cè)量
交流伏安法ACV	氯離子濃度監(jiān)測(cè)
交流溶出伏安法	宏電池電流監(jiān)測(cè)
交流循環(huán)伏安法ACCV	半電池恒流陽極極化
二次諧波交流伏安法	半電池恒流陰極極化
傅里葉變換交流伏安法	半電池恒流循環(huán)極化
電流掃描計(jì)時(shí)電位法	電池恒流充電
交流阻抗譜EIS	電池恒流放電
交流阻抗-電位 (阻抗模-電位、輻角-電位、Mott-Schottky)	電池恒流循環(huán)充放電
交流阻抗-時(shí)間	電池全容量分段充電
微分電容-電位	電池全容量分段放電
微分電容-頻率	恒流限壓快速循環(huán)充放電
高阻電位計(jì)	零阻電流計(jì)
器件電阻電源內(nèi)阻測(cè)量	四探針方塊電阻測(cè)量
線狀材料電阻率測(cè)量	刀型探頭方塊電阻測(cè)量