1. 非接觸晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng),晶圓規(guī)格可支持至 12 寸;
2. 采用色散共聚焦技術(shù),可進(jìn)行單層、多層、帶膜晶圓等產(chǎn)品的厚度、TTV 翹曲、BOW、輪廓分析、粗糙度等的關(guān)鍵尺寸的測(cè)量;
3. 半自動(dòng)系統(tǒng),使用多個(gè)晶圓固定裝置與計(jì)算機(jī)控制的 XYZ 軸;
4. 晶圓的厚度測(cè)量范圍為 5um 至 24mm;
5. 支持用戶(hù)自定義制定測(cè)量程序,測(cè)量路徑可采樣固定樣式的路徑也可以隨意,比能保存整個(gè)測(cè)量過(guò)程,同類(lèi)樣品,可直接復(fù)用;
6.支持多種測(cè)量模式:?jiǎn)吸c(diǎn)測(cè)量、線(xiàn)掃測(cè)量、面掃測(cè)量等,通過(guò)線(xiàn)掃或面掃測(cè)量可有效濾除零件表面粗糙度對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。
7. 多種測(cè)量結(jié)果呈現(xiàn)形式(表格,2D 繪圖,3D 偽彩圖);
8. 可選配視覺(jué)引導(dǎo)模組,進(jìn)行晶圓 MAP 圖的建立及精準(zhǔn)的測(cè)量點(diǎn)位規(guī)劃(適用于有圖晶圓)
9. 可選配圖像尺寸測(cè)量模塊,進(jìn)行平面尺寸測(cè)量;
10. 可選配白光干涉測(cè)量模塊,進(jìn)行納米級(jí)的粗糙度和 3D 形貌測(cè)量;
11.支持 SECS/GEM 標(biāo)準(zhǔn)通訊協(xié)議;
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晶圓測(cè)厚模塊 | 粗糙度模塊 | 輪廓測(cè)量模塊 |
厚度測(cè)量 | 平面度測(cè)量 |
精度 | 0.5um | 范圍 | 0-1000um |
分辨率 | 0.1um | 分辨率 | 1um |
精度 | 3um±1% |
粗糙度測(cè)量:測(cè)量范圍 Ra (0.025um~50um)(注:需單獨(dú)增加粗糙度測(cè)量模組)翹曲具備自動(dòng)計(jì)算翹曲 |
