HCP421V-PS是探針外部移動式的溫控探針臺，上蓋帶有可供顯微鏡觀察的視窗，溫度范圍為 -190℃ ~ 400℃。設備支持對樣品營造保護氣體/真空環(huán)境，防止樣品低溫下結霜/氧化。設備包含4個可從外部進行三軸向移動的探針機構，更換點針位置時不需要重新充入氣氛/抽真空，適用于需要頻繁移動點針位置的實驗應用。
產(chǎn)品簡介
HCP421V-PS是探針外部移動式的溫控探針臺，上蓋帶有可供顯微鏡觀察的視窗，溫度范圍為 -190℃ ~ 400℃。
設備支持對樣品營造保護氣體/真空環(huán)境，防止樣品低溫下結霜/氧化。設備包含4個可從外部進行三軸向移動的探針機構，更換點針位置時不需要重新充入氣氛/抽真空，適用于需要頻繁移動點針位置的實驗應用。
功能特點
可編程精密控溫?？瑟毩⒖刂?，也可從上位機軟件控制 |
探針可從外部移動，移動點針位置時無需中斷氣氛，操作耗時少 |
4探針，分別導通探針臺外殼上的4個BNC接口 |
彎針探針，點針更精準，點針力度更大，電接觸性更好 |
探針粗調范圍約30mm x 30mm，微調范圍10mm x 10mm x 10mm |
默認真空腔室，通向2個KF接頭，可充保護氣體 |
上蓋帶有樣品觀察窗 |
臺體內置干燥氣體管道，用于負溫時對視窗的除霜 |
視窗可拆卸與更換，可用不同材質窗片實現(xiàn)不同波段光觀察 |
軟件可拓展性強，可提供LabView等語言的SDK |
#升級項# 性能可升級，詳見 配置列表 |
可做改動或定制，例如霍爾探針臺，詳詢蘇州卡斯圖 |
技術參數(shù)
溫 控 性 能 | 溫度范圍 | -190℃ ～ 400℃ 負溫需使用液氮制冷 |
溫度分辨率 | 0.01℃ | |
溫度穩(wěn)定性 | ±0.05℃(at 100℃) 可提升穩(wěn)定性 | |
Z小控溫速度 | ±0.1℃/小時 | |
溫度傳感器 | 100Ω鉑質RTD | |
溫控方式 | LVDC式PID | |
結構 | 樣品腔面積 | 30 mm x 28 mm |
*注：液氮泵型號不同，制冷表現(xiàn)也會有差異，請悉知。
配置列表
標 準 | HCP421V-PS溫控探針臺 | √ |
mK2000溫度控制器 軟件免費，控制線有多種接口供選 | √ | |
升 級 項 | 探針臂Z高可增加為六探針 | |
從 樣品臺面電接地 升級為 樣品臺面電懸空 | ||
從 BNC外殼電接地 升級為 BNC外殼電懸空 | ||
選 配 件 | 顯微鏡頭 用于觀察樣品，升降支架可與探針臺底座固定 | |
液氮制冷系統(tǒng) 包含液氮泵與液氮罐，使樣品降到負溫 | ||
外殼水冷配件 用常溫水或冰水循環(huán)防止外殼過熱 | ||
安裝支架 把臺體固定在使用平臺上，防止滑動 | ||
溫控聯(lián)動顯微鏡相機 溫度-圖像聯(lián)動工作，附軟件 | ||
線性可變直流電源(LVDC) 裝在溫控器里，控制電噪音 | ||
真空系統(tǒng)(真空腔型號適用) 真空泵、真空計、真空管路 | ||
*注：產(chǎn)品有多種配置變化，詳詢蘇州卡斯圖 | ||
探針外部移動的優(yōu)勢
如左圖，HCP421V-PS同時具有探針外部移動、樣品真空控制的功能。能勝任低溫、高溫易氧化樣品的電測試。并且在更換探針點針位置時，可以直接從外部操作。這樣很增加實驗速度的。
沒有外部移動的探針臺，要重新點針就要開蓋，然后重新充入氣氛或抽真空，等到氣氛營造完才能正式測試——這個步驟通常是實驗耗費的Z主要時間。HCP421V-PS重新點針時只要在外部操作，避免了這種窘境。
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