良好的擴(kuò)展功能，遠(yuǎn)矚
低使用成本設(shè)計，經(jīng)濟(jì)實用。
分光系統(tǒng)
凹面全息離子刻蝕光柵
光柵焦距600mm
光柵刻線數(shù)2400條/mm
檢測波長范圍120-800nm
光源系統(tǒng)
激發(fā)電壓500V/300V軟件設(shè)置自動轉(zhuǎn)換
6種激發(fā)光源
放電參數(shù)可根據(jù)不同分析要求調(diào)節(jié)
水平氬氣保護(hù)發(fā)光臺
數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)及分析軟件
外置式品牌計算機(jī)及打印機(jī)
Windows操作系統(tǒng)
易于操作的PDA-Win分析軟件包
數(shù)據(jù)管理功能
分析情報保護(hù)功能
電源和環(huán)境要求
220V±10%，50/60Hz，功率4KVA
單獨地線＜30Ω（干燥地區(qū)＜10Ω）
溫度10-30℃（每小時變化＜5℃）
濕度 80%以下
重量約500kg，尺寸W1550×D620×H253
※外觀及規(guī)格如有變動，恕不另行通知。
發(fā)射光譜分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）
所謂發(fā)射光譜分析是指使用放電等離子體蒸發(fā)氣化來激發(fā)樣品中的目標(biāo)元素，根據(jù)得到的元素固有的亮線光譜（原子光譜）的波長進(jìn)行定性，并根據(jù)發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行定量的分析方法。
廣義上講，激發(fā)放電（光源）還包括使用ICP（Inductively coupled plasma 電感耦合等離子體）作為激發(fā)放電（光源）的ICP發(fā)射光譜分析。但發(fā)射光譜分析（發(fā)光分析）或光電測光式發(fā)射光譜分析，是指使用火花放電/直流電弧放電 /輝光放電作為激發(fā)放電的發(fā)射光譜分析。發(fā)射光譜分析中，在固體金屬樣品和與電極之間發(fā)生放電。
島津的發(fā)射光譜分析裝置是在氬氣氛圍中進(jìn)行火花放電，對火花脈沖的發(fā)光進(jìn)行統(tǒng)計處理，采用可提高測定重現(xiàn)性（精度）的方式（PDA測光方式：Pulse Distribution Analysis）。
發(fā)射光譜分析裝置可快速測定固體金屬樣品的元素組成，是在煉鐵、鋁冶煉工藝管理用中的手段。
