移動式多功能磁粉探傷機CMDCED系列采用新材料，新工藝設(shè)計制造的大電流移動式磁粉探傷設(shè)備

移動式多功能磁粉探傷機

CMD CED系列

采用新材料，新工藝設(shè)計制造的大電流移動式磁粉探傷設(shè)備。具有體積小，重量輕，便于移動，交直流兩用，功能齊全，操作簡便等優(yōu)點，各項技術(shù)性能符合美國，德國航天、航空、等行業(yè)的嚴格規(guī)范要求，可替代進口同類設(shè)備，適用于大型、特大型零件整體或局部半波直流探傷和交流探傷。

為便于流動現(xiàn)場使用，較超大電流設(shè)備設(shè)計成移動式，可進行交流磁化，半波直流磁化和自動退磁，充退磁電流連續(xù)可調(diào)，交流磁化帶斷電相位控制。

適用于航天、航空、鐵道、汽車、船舶、壓力容器、機械等行業(yè)，可利用糾纏法外加的磁場或支桿法自身感應的磁場，適用連續(xù)法和剩磁法對工件進行整體或局部探傷。