iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀
我公司銷(xiāo)售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長(zhǎng)色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計(jì)（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）、液相色譜儀（LC）、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）、高頻紅外碳硫分析儀（CS）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。
應(yīng)用領(lǐng)域
分析各種電鍍鍍層厚度
技術(shù)指標(biāo)
多鍍層分析，1～5層；
測(cè)試精度：0.001μm；
元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)；
測(cè)量時(shí)間：10~30秒；
SDD探測(cè)器，能量分辨率為125±5eV；
探測(cè)器Be窗0.5mil（12.7μm）；
微焦X射線管50kV/1mA，鉬，銠靶（高配微焦鉬靶）；
6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換；
高清CCD攝像頭（200萬(wàn)像素），準(zhǔn)確監(jiān)控位置；
多變量非線性去卷積曲線擬合；
高性能FP/MLSQ分析；
軟件支持無(wú)標(biāo)樣分析；
寬大分析平臺(tái)和樣品腔；
集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面；
采用多種光譜擬合分析處理技術(shù)；
鍍層測(cè)厚分析可達(dá)到0.001μm。
單層厚度范圍：
金鍍層0－8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以內(nèi)，
可最小測(cè)量達(dá)0.001um。
2.3、多層厚度范圍
Au/Ni/Cu:Au分析厚度:0-8umNi分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu:Sn分析厚度:0-30umNi分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe:Cr分析厚度0-15umNi分析厚度:0-30um
2.4、鍍層層數(shù)為1-6層
2.5、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。
2.6、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。
單層分析精度，以Ni舉例：（相對(duì)差值）
Ni層厚度(um)
保證精度
<1.0um
<5%
1.0-5.0um
<3%
5.0-10um
<3%
10-20um
<3%
>20.0um
<3%
分析報(bào)告結(jié)果
直接打印分析報(bào)告；
報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF，EXCEL格式。
iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀
