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簡介：半導(dǎo)體芯片退火設(shè)備RTP快速退火爐可應(yīng)用于集成電路的離子注入退火；集成電路、LED芯片、半導(dǎo)體激光器芯片、射頻芯片、MEMS芯片、功率器件、分立器件、第三代半導(dǎo)體等的合金化退火；石墨烯，Au納米晶...

簡介：快速退火爐嘉儀通RTP4吋快速退火爐控溫精度準(zhǔn)升溫速度快半導(dǎo)體退火設(shè)備采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實現(xiàn)大尺寸樣品（4英寸樣品）快速升溫和降溫，同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，可達(dá)到比較好的溫場均勻性，對材...

簡介：

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簡介：真空磁場退火高溫爐水冷機組加熱系統(tǒng)適應(yīng)范圍：需在高溫、高真空、強磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

簡介：MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進(jìn)行快速升降溫，潔凈加熱。Mila-5000series多功能快速退火爐將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟型退火爐，可以在不同的氣氛下進(jìn)行加...

簡介：AdvanceRiko-經(jīng)濟型RTP快速退火爐RTP-6采用拋物線形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統(tǒng)可進(jìn)行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開發(fā)?？捎糜诎雽?dǎo)體工藝中硅化物的形成以及...

簡介：紅外金面反射爐應(yīng)用于科研和生產(chǎn)當(dāng)中，AdvanceRiko紅外金面快速退火爐RHL-Pseries具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點。

簡介：Mila-50502英寸快速退火爐適用于對直徑50mm以內(nèi)的樣品進(jìn)行熱處理。之前推出的Mila-5000series，可處理的樣品的尺寸直徑為20mm，已不能滿足部分用戶的需求。