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簡(jiǎn)介：1000℃真空氣氛攪拌爐是我所研發(fā)改進(jìn)的新款產(chǎn)品，可在高真空或在氣氛環(huán)境下對(duì)物料進(jìn)行攪拌，滿足客戶的實(shí)驗(yàn)要求；本款產(chǎn)品集成了升降攪拌系統(tǒng)，磁力密封系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)等，可通過(guò)控制按...

簡(jiǎn)介：1100℃高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制,控溫精度高；內(nèi)膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門(mén)配有循環(huán)水冷，保證爐門(mén)與爐膽的可靠密封；可選配真空裝置，可以...

簡(jiǎn)介：真空氣氛爐是我公司研發(fā)的功能強(qiáng)大的真空氣氛爐，集成了加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、溫度及真空監(jiān)測(cè)系統(tǒng)等，7寸觸摸屏智能化系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)一鍵操作智能化控制。主要應(yīng)用于金屬材料在高真空，高溫條件下進(jìn)...

簡(jiǎn)介：CVD-1200系統(tǒng)由滑動(dòng)式開(kāi)啟式真空管式爐，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1200℃，通過(guò)滑動(dòng)爐體來(lái)實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來(lái)達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過(guò)三路高精度...

簡(jiǎn)介：CVD-1700浮子混氣系統(tǒng)由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統(tǒng)，內(nèi)置測(cè)溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃；真空泵采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)到5x10-1Pa...

簡(jiǎn)介：CVI-1200系統(tǒng)由高溫管式爐，真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，過(guò)壓保護(hù)及冷凝等部分組成，可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.1mbar混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。

簡(jiǎn)介：CVI-1700系統(tǒng)由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統(tǒng)，真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，尾氣冷凝收集處理系統(tǒng)等組成。真空泵采進(jìn)口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達(dá)到7.5x10-1Torr；可實(shí)現(xiàn)多路...

簡(jiǎn)介：PECVD開(kāi)啟式管式爐系統(tǒng)在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場(chǎng)，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場(chǎng)的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使...

簡(jiǎn)介：實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng)主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

簡(jiǎn)介：氣簾密封式連續(xù)走絲沉積爐（碳纖維制備爐）產(chǎn)品參數(shù)正在更新中